化学气相沉积
气体在高温、等离子体、激光等能量激发下，在基底表面或气相中发生分解、氧化、还原、化合等化学反应，反应生成的固态产物沉积在基底表面，形成均匀的薄膜或粉体。主流产品有六氟化钨（WF6）、高纯氨（NH3）、硫化氢（H2S），可实现单原子层的均匀沉积，对薄膜的厚度、成分以及掺杂水平进行精确控制，常用于制备芯片中的氧化层、掺杂层、金属互联层等。
